KRI 考夫曼離子源

            1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

            伯東離子源      精密薄膜控制

            伯東離子源蝕刻均勻性

            伯東離子源精密光學

            伯東離子源MEMS,傳感器和顯示器

            考夫曼離子源創始人 Harold Kaufman

            1926 年在美國出生
            1951 年加入美國 NASA 路易斯研究中心
            1971 年考夫曼博士獲得美國宇航局杰出服務獎
            1978 年考夫曼博士成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司,開始研發生產適合民用的霍爾離子源和考夫曼離子源

            KRI 射頻離子源 RFICP 系列

            射頻離子源, 提供高能量, 低濃度的離子束, 單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜

            型號

            RFICP 40

            RFICP 100

            RFICP 140

            RFICP 220

            RFICP 380

            離子束流

            >100 mA

            >350 mA

            >600 mA

            >800 mA

            >1500 mA

            離子動能

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            柵極直徑

            4 cm Φ

            10 cm Φ

            14 cm Φ

            20 cm Φ

            30 cm Φ

            離子束

            聚焦, 平行, 散射

            KRI 考夫曼離子源 KDC 系列

            離子源通過加熱燈絲產生離子束, 低濃度高能量寬束型離子源

            型號

            KDC 10

            KDC 40

            KDC 75

            KDC 100

            KDC 160

            離子束流

            >10 mA

            >100 mA

            >250 mA

            >400 mA

            >650 mA

            離子動能

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            100-1200 V

            柵極直徑

            1 cm Φ

            4 cm Φ

            7.5 cm Φ

            12 cm Φ

            16 cm Φ

            離子束

            聚焦, 平行, 散射

            KRI 霍爾離子源 eH 系列

            霍爾離子源無柵極, 高濃度, 低能量寬束型離子源
            發散離子束 >45

            KRI 霍爾離子源 eH 400

            霍爾離子源 eH 400
            尺寸:直徑= 3.7“ 高= 3”
            離子束動能: 50-300eV
            電流: 5a

            霍爾離子源 eh400

            KRI 考夫曼離子源 KDC 75

            考夫曼離子源 KDC 75
            尺寸: 直徑= 5.5“ 高= 7.9”
            離子束動能: 100-1200 eV
            電流: 250 mA

            考夫曼離子源

            KRI 考夫曼離子源 KDC 10

            考夫曼型離子源 KDC 系列最小型號的離子源
            尺寸:直徑= 1.52“ 高= 4.5”
            離子束動能: 100-1200 ev
            電流: 10 mA

            考夫曼離子源  KDC 10

            KRI 考夫曼離子源 KDC 40

            考夫曼離子源 KDC 40
            尺寸: 直徑= 3.5“ 高= 6.75”
            離子束動能: 100-1200 eV
            電流: 120 mA

            考夫曼離子源 KDC40

            KRI 霍爾離子源 eH 1000

            霍爾離子源 eH 1000
            尺寸:直徑= 5.7“ 高= 5.5”
            離子束動能: 50-300V
            電流: 10A

            霍爾離子源

            KRI 霍爾離子源 eH 2000

            霍爾離子源 eH 2000
            尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
            離子束動能: 50-300V
            電流: 10A 或 15A

            霍爾離子源eh2000

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