霍爾離子源 eH 200
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            霍爾離子源 eH 200

            KRI 霍爾離子源 eH 200
            上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內, 例如研發分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產工具.

            KRI 霍爾離子源 eH 200 技術參數:

            型號

            eH 200

            供電

            DC magnetic confinement

              - 電壓

            40-300V VDC

              - 離子源直徑

            ~ 2 cm

              - 陽極結構

            模塊化

            電源控制

            eHx-3005A

            配置

            -

              - 陰極中和器

            Filament or Hollow Cathode

              - 離子束發散角度

            > 45° (hwhm)

              - 陽極

            標準或 Grooved

              - 水冷

              - 底座

            移動或快接法蘭

              - 高度

            2.0'

              - 直徑

            2.5'

              -加工材料

            金屬
            電介質
            半導體

              -工藝氣體

            Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

              - 安裝距離

            6-24”

              - 自動控制

            控制4種氣體

            * 可選: 可調角度的支架; Filamentless; Sidewinder

            KRI 霍爾離子源 eH 200 應用領域:
            濺鍍和蒸發鍍膜 PC
            輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
            表面改性, 激活 SM
            直接沉積 DD

            其他產品

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