霍爾離子源 eH 3000
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            霍爾離子源 eH 3000

            KRI 霍爾離子源 eH 3000
            上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
            尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
            放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
            操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

            KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
            水冷 - 加速冷卻
            可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
            寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
            多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
            高效的等離子轉換和穩定的功率控制

            KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

            型號

            eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

            供電

            DC magnetic confinement

              - 電壓

            50-250V VDC

              - 離子源直徑

            ~ 7 cm

              - 陽極結構

            模塊化

            電源控制

            eHx-25020A

            配置

            -

             - 陰極中和器

            Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

             - 離子束發散角度

            > 45° (hwhm)

              - 陽極

            標準或 Grooved

             - 水冷

            前板水冷

             - 底座

            移動或快接法蘭

             - 高度

            4.0'

             - 直徑

            5.7'

             - 加工材料

            金屬
            電介質
            半導體

             - 工藝氣體

            Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

             - 安裝距離

            16-45”

             - 自動控制

            控制4種氣體

            * 可選: 可調角度的支架;

            KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
            濺鍍和蒸發鍍膜 PC
            輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
            表面改性, 激活 SM
            直接沉積 DD

            其他產品

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